设备型号：IB-19510CP

制造厂商：日本电子株式会社

购置时间：2017年

主要技术指标：

1、离子加速电压：2-8KV；

2、样品最大尺寸：11（宽）*10（长）*2（厚），mm；

3、离子束直径：500μm；；

4、样品移动范围：±0.5mm；样品旋转角度：±5°；

5、所有操作通过6.5寸触摸屏进行，无需目镜观察；定位CCD：70倍，定位精度好于20um。

主要附件：变压器、备件包、试样旋转座、体式显微镜

主要功能及应用范围：IB-19510CP截面抛光仪是一款操作简便的制样设备，用于SEM, EPMA, 和TEM的样品制备。它可以制备软的、硬的和复合材料的样品，损伤、污染和变形可以控制得非常小。依靠离子束轰击制备样品剖面，观察范围大、清洁而且适用于几乎所有材料。